KT-1650PVD是一款小型臺式濺射功率可控磁控濺射儀,儀器雖小功能齊全,配備有電壓 電流反饋,樣品臺旋轉(zhuǎn),樣品高度調(diào)節(jié),及電動擋板功能。通過定時(shí)調(diào)節(jié)預(yù)濺射功率及薄膜沉積功率,可對大部分金屬進(jìn)行均勻物理沉積,真空腔室為透明石英玻璃減少樣品污染,樣品臺可旋轉(zhuǎn)以獲得更均勻的薄膜,可制備各種金屬薄膜。
磁控離子濺射儀為掃描電鏡用戶在制樣過程中提供了更廣泛的選擇,以便適用支持掃描電子顯微鏡所需的涂層要求。磁控濺射的原理是,在電場內(nèi)在疊加一個(gè)磁場,這樣電子在疊加場內(nèi)做螺旋運(yùn)動,行程很長,每個(gè)電子電離的氣體分子比直流多很多很多,所以可以在低電壓下,有較好的真空度。濺射產(chǎn)生同樣的鍍膜效果。但是因?yàn)榇趴卣婵斩认鄬Ω撸藻兡さ念w粒小,膜層附著力好,靶材的利用率也高。
在直流濺射過程中,樣品的溫升主要來自于負(fù)離子在電場作用下對樣品的轟擊,在磁控濺射中,負(fù)離子都被磁場束縛了,所以基本沒有對樣品的轟擊,所以溫升基本沒有,很適合溫度敏感性的樣品制備。 |