磷酸鋰納米顆粒高速研磨機/鋰鹽管線式納米膠體磨/正磷酸高剪切納米膠體磨
磷酸鋰納米顆粒的方法，該方法將含鋰元素的水溶液和含磷元素的水溶液在IKN高剪切反應(yīng)釜內(nèi)快速混合進行反應(yīng)，在20℃-90℃下進行反應(yīng)，從反應(yīng)器出口得到含磷酸鋰沉淀的漿料，漿料經(jīng)固液分離、洗滌、干燥及經(jīng)過IKN高剪切膠體磨研磨，最終得到呈納米顆粒狀態(tài)且單分散性較好的磷酸鋰顆粒。
工業(yè)上大多使用磷酸鹽和鋰鹽溶液為原料在攪拌釜等常規(guī)反應(yīng)器內(nèi)直接混合，反應(yīng)得到磷酸鋰沉淀。由于常規(guī)反應(yīng)器混合和傳質(zhì)效率低，因此局部過飽和度較低，不利于快速成核，并且由于反應(yīng)時間一般為I~5小時，反應(yīng)時間較長，顆粒生長較為嚴重，造成磷酸鋰顆粒粒徑較大且不均勻，平均粒徑均在微米級。
使用IKN高剪切納米膠體磨具有反應(yīng)條件溫和，設(shè)備可靠性好，所需反應(yīng)器體積小，過程連續(xù)簡便，易于操作等特點。制備的磷酸鋰顆粒粒徑在50-200nm范圍內(nèi)，尺寸可控，分布均勻，產(chǎn)品產(chǎn)率可達到90%左右。
磷酸鋰納米顆粒高速研磨機/鋰鹽管線式納米膠體磨/正磷酸高剪切納米膠體磨
磷酸鋰納米顆粒高速研磨機定轉(zhuǎn)子被制成圓椎形，具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離。齒列的深度：從開始的2.7mm 到末端的0.7mm，范圍比較大，范圍越大，處理的物料顆粒大小越廣。溝槽的結(jié)構(gòu)式斜齒，每個磨頭的溝槽深度不一樣，并且斜齒的流道的體積從上往下是從大到下。
磷酸鋰納米顆粒高速研磨機是由IKN研發(fā)工程師于2013年研發(fā)的一款用于物料精細研磨，分散，乳化，均質(zhì)的高精度設(shè)備，高剪切研磨分散機結(jié)合了IKN高剪切膠體磨與IKN高剪切分散均質(zhì)乳化機的高速研磨，分散，乳化，均質(zhì)等功能，設(shè)備轉(zhuǎn)速可達14000rpm，是目前XX設(shè)備轉(zhuǎn)速的4-5倍
CM2000系列是專門為膠體溶液生產(chǎn)所設(shè)計，特別是那些需要很好乳化和分散效果的膠體生產(chǎn)。CM2000的線速度很高，剪切間隙非常小，這樣當物料經(jīng)過的時候，形成的摩擦力就比較劇烈，結(jié)果就是通常所說的濕磨。定轉(zhuǎn)子被制成圓椎形，具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離。在增強的流體湍流下，凹槽在每級都可以改變方向。高質(zhì)量的表面拋光和結(jié)構(gòu)材料，可以滿足不同行業(yè)的多種要求。
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